詳細摘要： L75 PT 水平模式

詳細摘要： L75 VS/VD 垂直系統“零摩擦"設計

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詳細摘要： L76 PT 通用型熱膨脹儀

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詳細摘要： L75/High Pressure 高壓熱膨脹儀

詳細摘要： L75 PT Quattro 四樣品同時測量

詳細摘要： LFA 1000 激光導熱儀

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詳細摘要： TIM - Tester 熱界面材料測試系統

詳細摘要： TF-LFA 薄膜激光導熱儀

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詳細摘要： LZT-Meter 賽貝克系數/導熱聯測

詳細摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具高水平的產出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...

詳細摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統，通過的設計優化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節能。

詳細摘要： JBX-6300FS的電子光學系統在100kV的加速電壓下能自動調整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達5nm）的圖形。 ...

詳細摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 的技術實現了高速、高精度和...

詳細摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 zei的技術實現了高速、高精...