多源真空鍍膜機

 蒸鍍系統由蒸鍍真空室腔體，金屬源鍍膜系統，有機源鍍膜系統，樣品臺系統，真空泵機組，膜厚檢測系統，設備機架和電控系統組成，真空室前門與手套箱對接，該設備采用了一體化的設計方案，使整套設備結構緊湊、布局簡潔避免了實驗設備外觀凌亂的現象。

各部分的技術指標如下：

1、蒸鍍真空室腔體

a)       蒸鍍真空室腔體均為USU304優質不銹鋼D形前后開門結構，真空室內部尺寸D350*450mm（暫定），焊接前各個不銹鋼部件需進行物理，化學式表面拋光，焊接后采用電解式拋光，真空室表面潔凈美觀，真空腔體前后門均配有DN100視窗，可對真空腔體內部進行實時監控，并配有擋板以及防護玻璃，預防觀察窗污染；

b)       真空腔體底部安裝2套金屬源組件（含氣動擋板），5套有機源組件（含氣動擋板），1200L/S渦輪分子泵真空泵機組，2套烘烤照明系統以及3套水冷膜厚探頭等；

c)       頂部安裝多功能樣品臺一套，電動樣品托擋板，KF16氣動角閥（接通手套箱與真空室，通氣作用）以及其他輔助法蘭；

d)       左側安裝CF35氣動預抽角閥，KF16氣動放氣閥以及預留若干CF35法蘭；

e)       右側預留若干CF35法蘭；

f)        蒸鍍設備后側配有鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品。

2、蒸鍍真空腔蒸發源：2套金屬蒸發源，5套有機蒸發源

a)       2套金屬蒸發源：配一臺1000W可控硅調壓電源，數字表顯示蒸發電源，電流調整精度0.1A（微調），通過2根銅電極連接，兩端可夾鎢、鉬和鉭舟，每個金屬蒸發源配有氣動擋板，以便隨時遮擋蒸發源；

b)       5套有機蒸發源：在源內放置4CC石英舟，配日本導電牌SR93溫控表，精度±1℃，可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩定的功能，即能實現手動控制電流，配三臺溫控電源，有機源溫度為室溫—500度，每個有機蒸發源配有氣動擋板，以便隨時遮擋蒸發源；

c)       金屬采用陶瓷罩密封四周以及隔板分隔，有機源采用隔板分隔，避免交叉污染。

3、蒸鍍雙真空腔樣品臺系統：

a)       蒸鍍真空腔體樣品臺具有可升降，可旋轉，可水冷（配有熱電偶）功能；

b)       樣片托架，可安裝15*15mm樣片25片，附著掩膜板；

c)       樣片與蒸發源之間的間距為200-320mm，樣片轉速0～30轉／分連續可調；

d)       樣品臺安裝電動樣品擋板；

4、真空泵機組：

a)       通過CF200高真空氣動插板閥將真空腔體和1200L/S渦輪分子泵對接，再通過KF40高真空電磁截止閥將分子泵與9L/S機械泵對接；

b)       真空腔體和9L/S機械泵之間需要通過CF35高真空氣動角閥連接，KF40高真空電磁截止閥和CF35高真空氣動角閥和9L/S機械泵之間都需軟管之間連接。

5、膜厚檢測系統：

a)       采用SQC310C四通道英福康膜厚儀，膜厚儀擁有監測膜厚速率以及累計膜厚的功能；

b)       其中2個探頭用于監測一套金屬蒸發源和一套有機蒸發源，1個探頭用于監測三套有機蒸發源；

6、設備機架：

設備支撐采用碳鋼40方管焊接而成獨立機架，表面噴塑，承重主體設備相關系統，并且可以由萬向輪移動調整為主，通過地腳定位。

7、電控系統系統：

電氣控制部分采用機架內置；

a)       3臺有機源控制電源；

b)       1臺金屬源控制電源；

c)       蒸發源擋板控制電源；

d)       SQC310C四通道英福康膜厚儀一臺，可實現膜厚監測；

e)       渦輪分子泵電源一臺、機械泵控制電源一臺以及真空測量計（一低一高）一臺；

f)        樣品臺以及其擋板控制電源一臺；

g)       真空腔體內烘烤系統控制電源一臺；

h)       PLC控制器（10寸彩色觸摸屏等）；

i)        總控制電源以及其它輔助控制器。