納米涂料高剪切分散機(jī)

一應(yīng)般來(lái)說(shuō)，納米涂料必須滿足兩個(gè)條件：首先，涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1—100nm的粒徑范圍；其次，納米相的存在使涂料的性能要有明顯的提高或具有新的功能。傳統(tǒng)高速分散機(jī)的主要作用是將涂料研磨漿進(jìn)行預(yù)混合。現(xiàn)代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細(xì)化易分散的，加上潤(rùn)濕分散機(jī)的運(yùn)用，許多涂料不必進(jìn)行研磨，僅僅使用高速分散機(jī)就可以達(dá)到規(guī)定的細(xì)度。但是對(duì)于納米涂料的生產(chǎn)，傳統(tǒng)的高速分散機(jī)是無(wú)法到達(dá)要求的，細(xì)度的要求無(wú)法滿足。

納米涂料的難點(diǎn)是：粉體分散到液體里面，容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，會(huì)將原本納米級(jí)的粒徑變成大的團(tuán)聚體，從而難以分散細(xì)化，影響*終產(chǎn)品性能。
應(yīng)對(duì)這種現(xiàn)狀，研發(fā)并生產(chǎn)出型的研磨+分散設(shè)備，研磨和分散一體化的設(shè)備，先研磨將二級(jí)團(tuán)聚體打開(kāi)，再分散，從而還原原始的納米粒徑。
結(jié)合南昌某客戶的案例，使用GMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備對(duì)納米涂料進(jìn)行處理，研磨分散3遍，即可還原納米級(jí)粒徑，客戶很是驚喜和認(rèn)可。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

研磨式分散機(jī)是由膠體磨，分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

納米涂料高剪切分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表：